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PQFN2x2系列:IR推出新款超小型功率MOSFET用于便攜設備

發布時間:2011-06-16 來源:EDN china

產品特性:

  • 超小型、高密度、高效率
  • 導通電阻極低

應用范圍:

  • 智能手機、電腦、數碼相機、服務器和網絡通訊設備


全球功率半導體和管理方案領導廠商國際整流器公司 (International Rectifier,簡稱IR) 擴展其封裝系列,推出新款的 PQFN 2mm x 2mm封裝。新的封裝采用IR最新的HEXFET MOSFET硅技術,為一系列的低功耗應用,包括智能手機、平板電腦、攝像機、數碼相機、筆記本電腦、服務器和網絡通訊設備,提供超小型、高密度和高效率的解決方案。

新款的PQFN2x2器件提供20V、25 V和30 V的選擇,并帶有標準或邏輯水平柵極驅動器。這些器件只需要4平方毫米的占位空間,采用IR最新的低電壓N-通道和P-通道硅技術,從而達到極低的導通電阻 (RDS(on)) ,以及等同PQFN3.3x3.3或PQFN5x6封裝的高功率密度。

IR 亞太區銷售副總裁潘大偉表示:“IR的新型PQFN2x2器件進一步擴展IR廣闊的功率 MOSFET系列,也可以滿足我們客戶的需求,進一步縮小封裝尺寸,并結合基準硅技術。這些新器件擁有超小尺寸和高密度,非常適合于高度數字化內容相關的應用。”

這個PQFN2x2系列包括為負載開關的高側而優化的P-通道器件,帶來一個更簡單的驅動解決方案。同時,新器件的厚度少于1 mm,使它們與現有的表面貼裝技術兼容,并且擁有行業標準的占位空間,還符合電子產品有害物質限制指令 (RoHS) 。

產品規格

組件編號 配  置  BV (V) 最大Vgs (V) 在10V下典型/最大RDS
(on)(m?)
在4.5V下典型/最大RDS
(on)(m?)
在2.5V下典型/最大RDS
(on)(m?)
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